在SCR脫硝系統(tǒng)中，氨逃逸（Ammonia Slip）不僅降低脫硝效率，還會(huì)造成二次污染（如銨鹽沉積、設(shè)備腐蝕等）。要有效控制氨逃逸，需從系統(tǒng)設(shè)計(jì)、運(yùn)行優(yōu)化和監(jiān)測(cè)維護(hù)等多方面綜合施策。

1. 優(yōu)化噴氨控制策略

• 精準(zhǔn)噴氨技術(shù)

  • 采用分區(qū)噴氨或渦流混合技術(shù)，結(jié)合CFD模擬優(yōu)化噴氨格柵（AIG）設(shè)計(jì)，確保氨與煙氣均勻混合，避免局部過量噴氨。

  • 使用動(dòng)態(tài)調(diào)諧算法（如PID閉環(huán)控制）根據(jù)NOx濃度實(shí)時(shí)調(diào)整噴氨量，避免響應(yīng)滯后。

• 前饋+反饋控制

  • 通過前饋控制（基于鍋爐負(fù)荷、燃料類型預(yù)測(cè)NOx生成）和反饋控制（出口NOx在線監(jiān)測(cè)）聯(lián)動(dòng)，減少噴氨波動(dòng)。

2. 催化劑管理

• 活性監(jiān)控與更換

  • 定期檢測(cè)催化劑活性，避免因催化劑老化（如燒結(jié)、中毒）導(dǎo)致反應(yīng)效率下降，需過量噴氨。

  • 采用分層催化劑布置（如高活性催化劑前置）或模塊化更換，延長(zhǎng)整體壽命。

• 抗中毒設(shè)計(jì)

  • 選擇抗硫、抗堿金屬中毒的催化劑（如TiO?-WO?/V?O?配方），減少因催化劑失效導(dǎo)致的氨逃逸。

3. 流場(chǎng)均勻性優(yōu)化

• 煙道導(dǎo)流設(shè)計(jì)

  • 加裝靜態(tài)混合器或導(dǎo)流板，消除煙氣流動(dòng)死區(qū)，確保流速和溫度分布均勻（±10%以內(nèi)）。

  • 通過冷態(tài)?；囼?yàn)或CFD仿真驗(yàn)證流場(chǎng)分布。

• 溫度控制

  • 維持反應(yīng)溫度在催化劑最佳窗口（通常300~400℃），避免低溫區(qū)氨未反應(yīng)直接逃逸。

4. 氨逃逸在線監(jiān)測(cè)與預(yù)警

• 激光光譜技術(shù)

  • 采用TDLAS（可調(diào)諧激光吸收光譜）實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)逃逸氨濃度（精度可達(dá)±1 ppm）。

• 數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)預(yù)警

  • 結(jié)合大數(shù)據(jù)分析（如歷史運(yùn)行數(shù)據(jù)、催化劑衰減曲線）預(yù)測(cè)逃逸風(fēng)險(xiǎn)，提前干預(yù)。

5. 系統(tǒng)維護(hù)與升級(jí)

• 定期吹灰

  • 防止積灰堵塞催化劑孔道，導(dǎo)致局部氨穿透。

• 備用層設(shè)計(jì)

  • 增設(shè)備用催化劑層，在活性下降時(shí)投用，避免過量噴氨。

• 氨噴射系統(tǒng)校準(zhǔn)

  • 定期檢查噴嘴霧化效果和氨氣分布均勻性。

總結(jié)

控制氨逃逸的核心是均勻性（流場(chǎng)、氨濃度、溫度）和精準(zhǔn)性（噴氨控制、催化劑活性）。需結(jié)合實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與定期維護(hù)，必要時(shí)通過技術(shù)改造升級(jí)系統(tǒng)。